[发明专利]基于宽带光源的大面积自成像光刻在审

专利信息
申请号: 201980085140.4 申请日: 2019-12-06
公开(公告)号: CN113227901A 公开(公告)日: 2021-08-06
发明(设计)人: 阿文德·查达;凯文·劳顿·坎宁安 申请(专利权)人: 应用材料公司
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;G03F7/20
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国;赵静
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 本文中描述的实施方式提供减小被写入到光刻胶中的部分的宽度的大面积光刻的方法。所述方法的一个实施方式包括在最小波长下将多个光束的初始光束投射到在所述多个光束的传播方向中的掩模。所述掩模具有多个色散元件。增加所述多个光束的各光束的波长直到所述多个光束的最后光束在最大波长下被投射。所述掩模的多个色散元件将所述多个光束衍射成阶模束以在位于所述掩模与上面设置有光刻胶层的衬底之间的介质中产生强度图案。具有多个强度顶点的所述强度图案将多个部分写入所述光刻胶层中。
搜索关键词: 基于 宽带 光源 大面积 成像 光刻
【主权项】:
暂无信息
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