[发明专利]量测传感器、照射系统、和产生具有能够配置的照射斑直径的测量照射的方法在审
| 申请号： | 201980084563.4 | 申请日： | 2019-11-19 |
| 公开（公告）号： | CN113196177A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩;S·R·胡伊斯曼;S·索科洛夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B6/42;G02B27/09;G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种用于将非相干辐射传递至量测传感器系统的照射系统。还公开了相关联的量测系统和方法。所述照射系统包括用于对位于所述量测传感器系统的模块壳体外部的所述非相干辐射的束进行选择性空间滤波的空间滤波系统。提供至少一个光导，该至少一个光导用于将被空间滤波后的非相干辐射的束引导至所述量测传感器系统，所述至少一个光导使得所引导的辐射具有与入射角大致类似的出射角。 | ||
| 搜索关键词： | 传感器 照射 系统 产生 具有 能够 配置 直径 测量 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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