[发明专利]用于计量的方法和装置在审

专利信息
申请号: 201980084489.6 申请日: 2019-11-18
公开(公告)号: CN113196176A 公开(公告)日: 2021-07-30
发明(设计)人: P·W·斯莫雷恩伯格;S·I·莫萨瓦特;T·J·科南 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01N23/20008;G01N21/956
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 赵林琳
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 用于将作为高次谐波产生(HHG)的结果发射的辐射束引导到衬底上的方法和装置。驱动辐射源向包含用于HHG产生的介质的相互作用区域提供驱动辐射。由HHG产生的辐射可包括多个软X射线(SXR)波长。不同的HHG产生的波长具有不同的发散角。该装置还包括光学系统,由于不同的发散角,该光学系统将不同的HHG波长聚焦到不同的焦平面。该装置还包括用于保持衬底的衬底支撑件。驱动辐射源、相互作用区域、光学系统和衬底支撑件中的一个或多个可以控制衬底相对于HHG辐射的多个焦平面的位置。
搜索关键词: 用于 计量 方法 装置
【主权项】:
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