[发明专利]随机EPE中的SEM FOV指纹和大型FOV SEM装置中的放置测量在审
| 申请号： | 201980080197.5 | 申请日： | 2019-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN113168118A | 公开（公告）日： | 2021-07-23 |
| 发明（设计）人： | M·库伊曼 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 赵林琳 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 公开了一种在光刻工艺中减小与晶片上的结构相关联的误差的变异性的方法。该方法包括基于图像(或多个图像)来确定图像中由于SEM畸变而引起的第一误差，所述图像基于通过扫描电子显微镜(SEM)对晶片的扫描而获取。该方法还包括基于图像来确定与该结构的真实误差相关联的第二误差，其中与该结构相关联的误差包括第一误差和第二误差。由数据处理器生成命令，该命令启用基于减小第一误差或第二误差中的任一项的对光刻工艺的修改以及对误差的变异性的相关联的减小。 | ||
| 搜索关键词： | 随机 epe 中的 sem fov 指纹 大型 装置 放置 测量 | ||
【主权项】：
暂无信息
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