[发明专利]用于基于可制造性确定图案形成装置图案的方法在审
申请号: | 201980078606.8 | 申请日: | 2019-10-29 |
公开(公告)号: | CN113168085A | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | R·比斯瓦斯;拉斐尔·C·豪厄尔;张翠平;贾宁宁;刘晶晶;张权 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36;G03F7/20 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 胡良均 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本文描述了一种用于确定图案形成装置图案的方法。所述方法包括:获得(i)具有至少一个特征的初始图案形成装置图案,以及(ii)所述至少一个特征的期望特征尺寸;基于图案化过程模型、所述初始图案化设备图案形成装置图案和针对衬底的目标图案,获得由所述初始图案形成装置得到的所述衬底图像的预测图案与针对所述衬底的所述目标图案之间的差异值;确定与所述至少一个特征的所述可制造性相关的惩罚值,其中所述惩罚值根据所述至少一个特征的所述尺寸变化;以及基于所述初始图案形成装置图案和所述期望特征尺寸来确定所述图案形成装置图案,使得所述差异值和所述惩罚值的总和被减小。 | ||
搜索关键词: | 用于 基于 制造 确定 图案 形成 装置 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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