[发明专利]用于辐射传感器的辐射滤光片在审

专利信息
申请号: 201980069319.0 申请日: 2019-09-19
公开(公告)号: CN112867971A 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: V·穆罕默迪;Y·乔杜里;P·C·德赫罗特;W·J·恩格伦;M·J·P·T·范德霍恩 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B5/22;H01L27/146
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 胡良均
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种用于减少有害波长的辐射的透射的辐射滤光片。辐射滤光片包括锆和SiN3。辐射滤光片可以形成辐射传感器的一部分,该辐射传感器包括:被布置为接收由辐射滤光片透射的辐射的钝化层、被布置为接收由钝化层透射的辐射的光电二极管以及连接到光电二极管的电路元件。辐射传感器可以作为极紫外光刻设备或光刻工具的一部分来执行光学测量。
搜索关键词: 用于 辐射 传感器 滤光
【主权项】:
暂无信息
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