[发明专利]粒子测定装置、校正方法以及测定装置在审
| 申请号： | 201980065132.3 | 申请日： | 2019-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN112840199A | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | 加藤晴久;松浦有祐;中村文子;近藤郁;田渕拓哉;冨田宽;林秀和 | 申请（专利权）人： | 国立研究开发法人产业技术综合研究所;理音株式会社;铠侠股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N15/02 | 分类号： | G01N15/02;G01N15/00 |
| 代理公司： | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人： | 李成必;李雪春 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明提供粒子测定装置、校正方法和测定装置，能使用校正用粒子简单地进行拍摄目标粒子等对象物的测定装置的校正。图像分析部(21)取得以时间间隔Δt得到的多个拍摄图像，(a)在校正模式下，根据所述多个拍摄图像中的校正用粒子的像素单位的光点的位移，确定校正用粒子的光点的均方位移Δ |
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| 搜索关键词： | 粒子 测定 装置 校正 方法 以及 | ||
【主权项】：
暂无信息
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