[发明专利]用于治疗设备的反馈检测有效
| 申请号： | 201980054696.7 | 申请日： | 2019-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN112584896B | 公开（公告）日： | 2022-11-08 |
| 发明（设计）人： | J·巴瓦尔卡;C·H·德雷瑟;R·凯特卡姆 | 申请（专利权）人： | 阿瓦瓦公司 |
| 主分类号： | A61B6/00 | 分类号： | A61B6/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 黄倩 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种系统包括被配置为将电磁辐射(EMR)束会聚至沿着光轴而定位的焦点区域的聚焦光学器件。该系统还包括被配置为检测从沿着光轴的预定位置发出的信号辐射的检测器。该系统附加地包括被配置为部分地基于由检测器检测到的信号辐射来调整EMR束的参数的控制器。该系统还包括沿着光轴在焦点区域与聚焦光学器件之间定位于远离焦点区域的预定深度的窗口，其中窗口被配置为与组织的表面进行接触。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 治疗 设备 反馈 检测 | ||
【主权项】：
暂无信息
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