[发明专利]用于组织治疗的光学阵列在审
| 申请号： | 201980054685.9 | 申请日： | 2019-06-20 |
| 公开（公告）号： | CN112584787A | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | C·H·德雷瑟;R·凯特卡姆;J·巴瓦尔卡 | 申请（专利权）人： | 阿瓦瓦公司 |
| 主分类号： | A61B18/20 | 分类号： | A61B18/20;A61N5/06;G02B3/00;G02B7/02;G02B27/09;H01S5/00 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 黄倩 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 一种光学系统包括被配置为接收主激光束并且生成多个子束的光学元件阵列。光学元件阵列包括被配置为将多个子束同时聚焦至靶标组织中的多个焦点区域的多个光学元件。光学元件阵列的节距范围从约1mm至约3mm。多个光学元件中的一个或多个光学元件的数值孔径范围从约0.3至约1。多个子束中的第一子束被配置为在多个焦点区域中的第一焦点区域中生成等离子体。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 组织 治疗 光学 阵列 | ||
【主权项】：
暂无信息
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