[发明专利]预备空间光调制器区段以解决场不均匀性在审
| 申请号： | 201980052865.3 | 申请日： | 2019-07-02 |
| 公开（公告）号： | CN112567297A | 公开（公告）日： | 2021-03-26 |
| 发明（设计）人： | 约瑟夫·R·约翰逊;托马斯·L·莱蒂格;克里斯多弗·丹尼斯·本彻 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开内容的实施方式总体提供使用数字微镜装置(DMD)的改进的光刻系统和方法。DMD包括与基板相对设置的微镜的列和行。光束从微镜反射至基板上，产生图案化基板。微镜的列和行的某些子集可定位至“关闭”位置，使得这些子集废弃光，以便校正图案化基板中的均匀性误差，即，比期望的大的特征。类似地，微镜的列和行的某些子集可默认为“关闭”位置并且选择性地允许这些子集返回到它们的编程位置，以便校正图案化基板中的均匀性误差，即，比期望的小的特征。 | ||
| 搜索关键词： | 预备 空间 调制器 区段 解决 不均匀 | ||
【主权项】：
暂无信息
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