[发明专利]用于生产放射性同位素的靶辐照系统在审
| 申请号： | 201980051636.X | 申请日： | 2019-07-15 |
| 公开（公告）号： | CN112534517A | 公开（公告）日： | 2021-03-19 |
| 发明（设计）人： | B.D.费希尔;T.G.昂德沃特 | 申请（专利权）人： | BWXT同位素技术集团有限公司 |
| 主分类号： | G21C19/00 | 分类号： | G21C19/00;G21C19/32 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王增强 |
| 地址： | 美国弗*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种靶辐照系统，包括辐照的靶去除系统，其具有主体，该主体限定中心孔；接收在所述中心孔内的升降器；以及对接表面，用于将所述辐照的靶去除系统安置为与反应堆的容器贯穿件流体连通。靶筒可滑动地接收在其中的放射性同位素靶，并且升降器构造成接收靶筒。升降器在当辐照放射性同位素靶时下降到反应堆中，并且辐照的靶去除系统在靶辐照期间会形成反应堆的压力边界的一部分。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 生产 放射性同位素 辐照 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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