[发明专利]位置传感器在审

专利信息
申请号: 201980045196.7 申请日: 2019-06-05
公开(公告)号: CN112368647A 公开(公告)日: 2021-02-12
发明(设计)人: S·A·戈登;S·R·惠斯曼;D·阿克布鲁特;A·波洛;J·A·G·阿克曼斯;A·J·登博夫 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;胡良均
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供了一种位置传感器(300),包括被配置为向衬底(307)提供测量辐射(304)的光学系统(305,306)。光学系统被布置为接收由设置在衬底上的标记(308)衍射的辐射(309)的至少一部分。应用处理器(313)以从接收到的辐射中得出至少一个位置敏感信号(312)。测量辐射包括至少第一选定辐射波长和第二选定辐射波长。至少第一辐射波长和第二辐射波长的选择基于位置误差摆动曲线模型。
搜索关键词: 位置 传感器
【主权项】:
暂无信息
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