[发明专利]非平面图案化纳米结构表面及用于其制造的印刷方法有效
申请号: | 201980043223.7 | 申请日: | 2019-06-21 |
公开(公告)号: | CN112313080B | 公开(公告)日: | 2022-05-24 |
发明(设计)人: | 詹姆斯·朱;卡尔·K·斯腾斯瓦德;丹尼尔·M·伦茨;托马斯·J·梅茨勒;莫塞斯·M·大卫;詹妮弗·A·蒂姆;特伦斯·A·佩哈切克 | 申请(专利权)人: | 3M创新有限公司 |
主分类号: | B41C1/18 | 分类号: | B41C1/18;B41F17/00;B41K1/22;B41F3/26;B41K3/26;B41M1/00;B81C1/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 梁晓广;李金刚 |
地址: | 美国明*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明公开一种将图案施加到具有曲率半径的非平面表面的方法。具有主表面的印模具有延伸远离基部表面的图案元件的浮雕图案。每个图案元件具有横向尺寸为0至5微米的压印表面。施加在压印表面上的墨包括具有化学键合到非平面表面的官能团的官能化分子。定位印模以引起非平面表面与印模的主表面之间的滚动接触。使图案元件的压印表面与非平面表面接触,以在非平面表面上形成官能化材料的自组装单层,并且赋予图案元件的布置。当印模的主表面接触非平面表面时,相对于非平面表面控制压印表面的相对位置。 | ||
搜索关键词: | 平面 图案 纳米 结构 表面 用于 制造 印刷 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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