[发明专利]电磁波束扫描全双工相控阵天线有效
| 申请号： | 201980038782.9 | 申请日： | 2019-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN112272901B | 公开（公告）日： | 2022-03-08 |
| 发明（设计）人： | 森格利·福 | 申请（专利权）人： | 华为技术有限公司 |
| 主分类号： | H01Q3/46 | 分类号： | H01Q3/46;H01Q1/38 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 熊永强;李稷芳 |
| 地址： | 518129 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明描述了一种电子波束扫描全双工相控阵天线。所述相控阵天线包括多个辐射单元的阵列。所述阵列包括具有多个辐射单元的至少一列，所述阵列用于生成辐射场。所述相控阵天线包括位于所述辐射单元阵列上方的超表面(metasurface)。所述超表面将相移引入到所述阵列的所述辐射场中，从而使得所述相控阵天线的波束与所述阵列的所述辐射场成角度偏移。 | ||
| 搜索关键词： | 电磁 波束 扫描 双工 相控阵 天线 | ||
【主权项】：
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