[发明专利]在低发射率薄膜涂层中包括经超快激光处理的含银层的涂覆制品和/或其制备方法有效
| 申请号： | 201980032368.7 | 申请日： | 2019-08-01 |
| 公开（公告）号： | CN112135804B | 公开（公告）日： | 2022-03-22 |
| 发明（设计）人： | 维克多·维拉萨米;贝恩德·迪斯特尔多尔夫 | 申请（专利权）人： | 佳殿玻璃有限公司;佳殿欧洲责任有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 李新红 |
| 地址： | 美国密*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
某些示例性实施方案涉及含银(低发射率)低E涂层的超快激光处理、包括此类涂层的涂覆制品和/或相关方法。在基底(例如，硼硅酸盐或钠钙玻璃)上形成所述低E涂层，其中所述低E涂层包括至少一个溅射沉积的银基层，并且其中每个所述银基层夹置在一个或多个电介质层之间。使低E涂层暴露于激光脉冲，所述激光脉冲具有不超过10 |
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| 搜索关键词： | 发射 薄膜 涂层 包括 经超快 激光 处理 含银层 制品 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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