[发明专利]X射线源和X射线成像装置在审

专利信息
申请号: 201980026278.7 申请日: 2019-02-19
公开(公告)号: CN112005332A 公开(公告)日: 2020-11-27
发明(设计)人: R·斯特德曼布克;G·福格特米尔 申请(专利权)人: 皇家飞利浦有限公司
主分类号: H01J35/14 分类号: H01J35/14;H05G1/26;H05G1/56;H05G1/58;H05G1/52
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 刘兆君
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提出了一种用于发射X射线射束(101)的X射线源(10)。所述X射线源(10)包括阳极(12)和发射器装置(14),所述发射器装置包括阴极(16)和电子光学器件(18),所述阴极用于朝向所述阳极(12)发射电子射束(15),所述电子光学器件用于将所述电子射束(15)聚焦于所述阳极(12)上的焦斑(20)处。所述X射线源(10)还包括控制器(22),所述控制器被配置为确定所述发射器装置(14)的切换动作,并且致动所述发射器装置(14)来执行所述切换动作,所述切换动作与所述阳极(12)上的所述焦斑(20)的位置、所述焦斑(20)的尺寸和所述焦斑(20)的形状中的至少一个的改变相关联。所述控制器(22)还被配置为在所述切换动作被执行之前基于所确定的切换动作来预测在所述切换动作之后预期的所述焦斑(20)的所述尺寸和所述形状。此外,所述控制器(22)被配置为致动所述电子光学器件(18)来补偿由所述切换动作引起的所述焦斑(20)的所述尺寸和所述形状的改变。
搜索关键词: 射线 成像 装置
【主权项】:
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