[发明专利]脱模膜及脱模膜的制造方法在审
申请号: | 201980023932.9 | 申请日: | 2019-06-06 |
公开(公告)号: | CN111936283A | 公开(公告)日: | 2020-11-13 |
发明(设计)人: | 中野正志;伊瀬知宣朗 | 申请(专利权)人: | 仓敷纺绩株式会社 |
主分类号: | B29C33/68 | 分类号: | B29C33/68 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 杨文娟;臧建明 |
地址: | 日本冈山*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供一种在树脂成形时能够将电磁屏蔽层转印至树脂成形品的表面的脱模膜。脱模膜(10)为用于树脂成形的脱模膜,具有:基材(20),具有与模具的脱模性,并构成第一表面(15);以及电磁屏蔽层(21),直接或间接地形成于所述基材上,并被转印至树脂成形品。 | ||
搜索关键词: | 脱模 制造 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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