[发明专利]辐射屏蔽装置和包括这样的屏蔽装置的设备在审
| 申请号： | 201980017481.8 | 申请日： | 2019-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN111819499A | 公开（公告）日： | 2020-10-23 |
| 发明（设计）人： | F·J·J·简森;P·J·J·H·A·哈贝茨;G·纳基伯格鲁;R·W·A·H·施米茨;R·范德梅伦唐克;J·D·B·J·范登博姆;N·P·瓦特森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 董莘 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种设备包括：热敏装置(F)；辐射元件(RE)，辐射元件在操作中生成第一电磁辐射(ER)，第一辐射朝向热敏装置传播；以及辐射屏蔽装置(20)，布置在辐射元件与热敏装置之间使得在操作中第一辐射入射在辐射屏蔽装置上。辐射屏蔽装置包括：具有布置在其中的第一流体通道(215)的第一屏蔽元件(21)，第一屏蔽元件具有第一表面(213)和第二表面(214)，第一表面被布置为比第二表面更靠近辐射元件；以及具有布置在其中的第二流体通道(225)的第二屏蔽元件(22)，第二屏蔽元件具有第三表面(223)和第四表面(224)，第三表面被布置为比第四表面靠近辐射元件。第一屏蔽元件被布置为比第二屏蔽元件靠近辐射元件，并且第二屏蔽元件被布置为比第一屏蔽元件靠近热敏装置，第一屏蔽元件和第二屏蔽元件彼此间隔开并且第二表面和第三表面彼此相对。 | ||
| 搜索关键词： | 辐射 屏蔽 装置 包括 这样 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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