[发明专利]形成图案化的材料层的方法和设备在审
| 申请号： | 201980016708.7 | 申请日： | 2019-02-21 |
| 公开（公告）号： | CN111837074A | 公开（公告）日： | 2020-10-27 |
| 发明（设计）人： | P·W·H·德贾格;S·F·乌伊斯特尔;玛丽亚-克莱尔·范拉尔;R·C·马斯;A·O·波利亚科夫;T·朱兹海妮娜;V·沃罗尼纳;E·库尔干诺娃;J·V·奥沃卡姆普;B·卡斯川普;M·范卡朋;A·多尔戈夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 闫红 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开用于形成图案化的材料层的方法和设备。在一种布置中，在沉积过程期间利用具有小于100nm的波长的电磁辐射来辐照衬底的表面的选定部分。此外，电场控制器被配置成施加被定向以便迫使二次电子远离所述衬底的电场。所述辐照在选定区中局部地驱动所述沉积过程且由此使所述沉积过程以由所述选定部分限定的图案形成材料层。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 图案 材料 方法 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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