[实用新型]一种光学成像膜有效
申请号: | 201922385196.1 | 申请日: | 2019-12-26 |
公开(公告)号: | CN211180431U | 公开(公告)日: | 2020-08-04 |
发明(设计)人: | 郑伟伟;蔡福鑫;申溯 | 申请(专利权)人: | 昇印光电(昆山)股份有限公司 |
主分类号: | G02B30/27 | 分类号: | G02B30/27 |
代理公司: | 苏州智品专利代理事务所(普通合伙) 32345 | 代理人: | 唐学青 |
地址: | 215300 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型提出一种光学成像膜,其包括:聚焦层、基底、图文层,图文层,其配置有复数周期排布的子图文,所述子图文设置为预设图文的部分图案,且至少部分的所述子图文的图案不同;聚焦层,其具有复数周期排布的聚焦结构,所述聚焦结构的宽度与其周期的比介于60%~80%;所述基底介于聚焦层与图文层之间,所述聚焦层与所述图文层相匹配,以使在视角范围内所述光学成像膜呈现上浮和/或下沉的所述预设图文的放大影像。通过优化规则排布的聚焦结构的间隔及其匹配的子图文排布周期的方式,增大了光学成像膜的可视角同时显著的减小防伪膜中莫尔像的串扰问题,提高成型质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 光学 成像 | ||
【主权项】:
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