[实用新型]一种用于半导体器件背面保护简易曝光机有效
| 申请号： | 201922253342.5 | 申请日： | 2019-12-16 |
| 公开（公告）号： | CN210721015U | 公开（公告）日： | 2020-06-09 |
| 发明（设计）人： | 崔文荣 | 申请（专利权）人： | 江苏晟驰微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京天盾知识产权代理有限公司 11421 | 代理人： | 张彩珍 |
| 地址： | 226600 江苏省南*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于半导体器件背面保护简易曝光机，包括箱体，箱体顶部设置有电器控制盒，电器控制盒内设置有电源，外箱体部设有计时器，温控器，电流表，电流调节器，箱体一侧铰接有开关门，箱体内部上侧设置有LED UV光刻光源和平行光光罩，且平行光光罩安装在LED UV光刻光源下方，所述箱体内底部设置有电磁阀真空盘，LED UV光刻光源、电磁阀真空盘均与电源电性连接，由脚踏开关控制动作，箱体上设置有出风口散热风机；本实用新型结构简单，设计合理，操作使用方便，简易、安全和曝光均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 半导体器件 背面 保护 简易 曝光 | ||
【主权项】：
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