[实用新型]用于稳定辊加工的抛光设备有效

专利信息
申请号: 201921877462.6 申请日: 2019-11-04
公开(公告)号: CN210938698U 公开(公告)日: 2020-07-07
发明(设计)人: 温成亮;宋毅;崔克顺 申请(专利权)人: 西马克技术(天津)有限公司
主分类号: B24B29/04 分类号: B24B29/04;B24B41/06;B24B47/12;B24B47/20;B24B47/22
代理公司: 天津英扬昊睿专利代理事务所(普通合伙) 12227 代理人: 吴扬
地址: 300000 天津市*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 用于稳定辊加工的抛光设备,包括工作台、立柱、转轴、抛光机本体、抛光盘、支撑柱、上层板、底板、上调节杆、下调节杆、螺栓、滑道、电机支架、电机,工作台左右两侧相对设有立柱,立柱上分别设有转轴,位于工作台右侧的立柱上的转轴与电机的输出端连接,电机设在电机支架上,工作台后侧设有抛光机本体,抛光机本体上带有抛光盘,抛光机本体下侧设有支撑柱,支撑柱固定安装在上层板上,下层板下侧设有底板,上层板与底板之间分别设有通过螺栓连接的上调节杆与下调节杆,工作台上设有滑道,底板位于滑道内。本实用新型的优点在于:具有有效支撑辅助装置,可以实现抛光设备方便的对稳定辊进行全面抛光,抛光效率高,保证抛光质量,降低了废品率。
搜索关键词: 用于 稳定 加工 抛光 设备
【主权项】:
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