[实用新型]下光源曝光装置有效
| 申请号： | 201921807458.2 | 申请日： | 2019-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN210605357U | 公开（公告）日： | 2020-05-22 |
| 发明（设计）人： | 陈翻;范利康;秦键;沙昭 | 申请（专利权）人： | 武汉正源高理光学有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 | 代理人： | 周琼 |
| 地址： | 430000 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型属于光学技术领域，更具体的说特别涉及一种下光源曝光装置，包括净化台，所述净化台内设有操作台，所述操作台下方设有曝光机，所述操作台的台面上设有用于安放掩模版的通孔，所述曝光机的曝光头正对着该通孔。本实用新型可以实现在连续生产时掩模版不需要移动，只需更换基片即可，大幅提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 光源 曝光 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉正源高理光学有限公司，未经武汉正源高理光学有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201921807458.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种用于加工磁材的退火炉
- 下一篇：一种组合式空调机组
