[实用新型]一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置有效

专利信息
申请号: 201921754541.8 申请日: 2019-10-18
公开(公告)号: CN210711822U 公开(公告)日: 2020-06-09
发明(设计)人: 王依福;王炳予 申请(专利权)人: 兴山兴蓝光电科技有限公司
主分类号: C30B15/20 分类号: C30B15/20;C30B29/06
代理公司: 宜昌市三峡专利事务所 42103 代理人: 余山
地址: 443700 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 一种光学晶体生长反应釜用温场平衡装置,包括底座,底座的顶部固定安装有炉体和位于炉体右侧的支撑架,炉体的内部设置有温场平衡机构,温场平衡机构由侧反射屏、固定盘、下反射屏、耐高温保温层和发热体组成,固定盘的中部设置有钨棒,钨棒的顶端依次贯穿固定盘、下反射屏和发热体并延伸至发热体的内部且放置有坩埚,坩埚外表面的顶部设置有上反射屏,底座的顶部设置有炉盖,炉盖和底座之间设置有若干个限位机构。本实用新型通过设置耐高温保温层能够对侧反射屏起到保温隔热的作用,从而减少发热体的温度由侧反射屏扩散出去造成资源的浪费,并且能够防止炉体温度升高烫伤操作人员,提高了该温场平衡装置的安全性。
搜索关键词: 一种 光学 晶体生长 反应 釜用温场 平衡 装置
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