[实用新型]一种双轴晶体主轴方向光学均匀性的测试装置有效
| 申请号： | 201921741892.5 | 申请日： | 2019-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN211086081U | 公开（公告）日： | 2020-07-24 |
| 发明（设计）人： | 吴文渊;何小玲;张昌龙;卢福华;王金亮;周海涛;李东平;覃世杰;左艳彬;宋旭东 | 申请（专利权）人： | 桂林百锐光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/45 | 分类号： | G01N21/45;G01B11/24 |
| 代理公司： | 桂林市持衡专利商标事务所有限公司 45107 | 代理人： | 唐智芳 |
| 地址： | 541004 广西壮族自治区*** | 国省代码： | 广西;45 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种双轴晶体主轴方向光学均匀性的测试装置。所述的测试装置包括沿光轴方向依次设置的光源、聚光透镜、准直透镜、起偏器、相位补偿器、检偏器、成像镜头和相机，待测晶体置于相位补偿器和检偏器之间，所述的相位补偿器由两块光楔构成，通过调节两块光楔的相对位置来调节相位延迟量，其中所述光楔的材质为成分与待测晶体相同且光学均匀性好的晶体。本实用新型所述装置结构简单、成本低廉、便于维护且适合推广使用；采用本实用新型所述装置对晶体光学均匀进行测试时，无需反复测试背景干扰及不同偏振态激光通过晶体形成干涉图，受环境影响小，测试效率高、适合批量化的生产检测。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 晶体 主轴 方向 光学 均匀 测试 装置 | ||
【主权项】：
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