[实用新型]适用于等离子体发生装置的气流幕绝缘结构有效
| 申请号： | 201921378658.0 | 申请日： | 2019-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN210469840U | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 吴军;朱劼;吴萍 | 申请（专利权）人： | 常州汉劼生物科技有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/24 | 分类号： | H05H1/24 |
| 代理公司： | 常州市科谊专利代理事务所 32225 | 代理人： | 言倩玉 |
| 地址： | 213000 江苏省常州市武*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种适用于等离子体发生装置的气流幕绝缘结构，包括：环形本体、沿着环形本体的轴线方向位于该环形本体的一端面上的均匀排布的若干个出气孔，以及沿着环形本体的轴线方向位于该环形本体的另一个端面上的至少一个进气孔，本实施例以两个进气孔为例，且两个进气孔相对于环形本体整体来说为对称分布结构。进气孔中适于通入绝缘气体，且进气孔与若干个出气孔均贯通以使气流通过进气孔后适于从若干个出气孔进行溢散，本实用新型的气流幕绝缘结构用于等离子体发生装置时可以形成高密度的气流幕的绝缘结构来提高辉光放电区产生的等离子体的密度和浓度，最终提高等离子体对于物料内能激发的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 适用于 等离子体 发生 装置 气流 绝缘 结构 | ||
【主权项】：
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