[实用新型]一种光刻胶去除机构有效
| 申请号： | 201921325353.3 | 申请日： | 2019-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN211123623U | 公开（公告）日： | 2020-07-28 |
| 发明（设计）人： | 原子健;李晓杰 | 申请（专利权）人： | 济源艾探电子科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京天盾知识产权代理有限公司 11421 | 代理人： | 卓邦荣 |
| 地址： | 459000 河南省*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种光刻胶去除机构，包括传送部，所述传送部包括两侧平行布置的带式传输机，沿带式传输机的进给方向依次设置第一处理部和第二处理部，所述第一处理部和第二处理部均包括能够上下移动的上盖体和下盖体，所述上盖体和下盖体关于带式传输机的工作面对称布置，本光刻胶去除机构通过第一处理部喷淋去离子水，对光刻胶表层的硬壳进行软化，随后在微波发生装置的作用下，利用等离子体对光刻胶进行轰击，以去除软化后的硬壳层和部分光刻胶，随后在第二处理部内部喷淋清洗液，对剩余的光刻胶进行清洗，由于硬壳被软化，其去除所需的等离子体轰击能量下降，降低等离子体对衬底的损伤，且减少清洗液清洗所需时间。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 去除 机构 | ||
【主权项】：
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