[实用新型]一种光掩膜板有效
申请号: | 201921300410.2 | 申请日: | 2019-08-12 |
公开(公告)号: | CN210270505U | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
发明(设计)人: | 杜良辉 | 申请(专利权)人: | 江苏壹度科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F1/48 | 分类号: | G03F1/48;G03F1/38 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 212400 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型涉及半导体技术领域,具体为一种光掩膜板,包括装置主体,装置主体上设有对照图案,装置主体的背面设有沿着装置主体宽度方向设置的标签,装置主体背面还设有石英玻璃基板,石英玻璃基板上设有下磁性膜保护贴片,装置主体的正面设有与下磁性膜保护贴片之间通过磁力作用吸附在装置主体上的上磁性膜保护贴片,装置主体的中心位置处设有沿着装置主体宽度方向设置的中心对折条纹带。本实用新型方便使用,减少灰尘附着在装置主体上,提高产品的质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 光掩膜板 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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