[实用新型]一种用于超精细充足能量的两次聚焦激光加工装置有效

专利信息
申请号: 201921184863.3 申请日: 2019-07-25
公开(公告)号: CN210498794U 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 蔡春迎;郭云华 申请(专利权)人: 深圳晶尹阳光电有限公司
主分类号: B23K26/046 分类号: B23K26/046;G02B27/00
代理公司: 深圳市道勤知酷知识产权代理事务所(普通合伙) 44439 代理人: 何兵;饶盛添
地址: 518000 广东省深圳市宝*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及一种用于超精细充足能量的两次聚焦激光加工装置,包括光纤激光器、依次远离所述光纤激光器并设置于所述光纤激光器的出射光路上的反射镜、聚焦镜、狭缝调节装置和显微镜,所述光纤激光器出射的光束经所述反射镜反射至所述聚焦镜聚焦后通过所述狭缝调节装置调节狭缝,通过所述显微镜缩小波长。光纤激光器发射的光束经过聚焦镜和显微镜二次聚焦,使得光束足够精细;本实用新型的一种用于超精细充足能量的两次聚焦激光加工装置,通过二次聚焦在激光器能量不充足的时候,可以提高单位阈值,从而有足够能量进行超精细加工;聚焦镜聚焦整型后通过狭缝调节装置根据需要调节狭缝结构,提高了狭缝调节的精度。
搜索关键词: 一种 用于 精细 充足 能量 两次 聚焦 激光 加工 装置
【主权项】:
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