[实用新型]一种用于磁控溅射系统的平面阴极有效
| 申请号： | 201921114610.9 | 申请日： | 2019-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN210560708U | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 匡国庆 | 申请（专利权）人： | 镇江市德利克真空设备科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 镇江基德专利代理事务所(普通合伙) 32306 | 代理人： | 邓月芳 |
| 地址： | 212216 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于磁控溅射系统的平面阴极，包括从下到上依次设置的底板、中板、液冷板和铜背板；所述铜背板的上表面覆盖有匀磁板，所述的匀磁板由碳钢区域与不锈钢区域拼接而成；所述的碳钢区域包括呈跑道状的环形部分与位于环形部分上下两侧的条形部分；所述的不锈钢区域包括位于碳钢区域环形部分左右两侧的半环形部分与位于碳钢区域环形部分内部的腰形部分。通过设置匀磁板将原先单峰值的磁场分布曲线，改为多峰值的磁场分布曲线，将磁场分布调整的更为均匀，从而提升镀膜均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 磁控溅射 系统 平面 阴极 | ||
【主权项】：
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