[实用新型]调节装置有效
申请号: | 201920932400.4 | 申请日: | 2019-06-19 |
公开(公告)号: | CN209821497U | 公开(公告)日: | 2019-12-20 |
发明(设计)人: | 代雨成;刘亮;曹洪涛;吕启涛;高云峰 | 申请(专利权)人: | 大族激光科技产业集团股份有限公司 |
主分类号: | G02B26/06 | 分类号: | G02B26/06;G02B7/00 |
代理公司: | 44528 深圳中细软知识产权代理有限公司 | 代理人: | 阎昱辰 |
地址: | 518000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种调节装置,包括:基座;支架,用于固定波片,支架设于基座内,支架能够在基座内转动,以使波片相对基座的偏转角度可调;润滑组件,润滑组件由非挥发性材质制成,设于支架和基座之间,润滑组件用于减小支架和基座之间的摩擦力。上述调节装置由于支架和基座之间设置有润滑组件,当支架在基座内转动时,润滑组件可以减小支架和基座之间的摩擦力,避免由于支架和基座之间的摩擦力过大而造成支架卡顿而无法旋转,确保波片相对基座的偏转角度的调节顺畅,同时由于润滑组件由非挥发性材质制成,当该调节装置安装于激光外光路系统中时,该调节装置的润滑组件不会挥发异物污染激光外光路系统中的元器件,具有无污染、调节顺畅的特点。 | ||
搜索关键词: | 支架 润滑组件 调节装置 偏转 外光路系统 非挥发性 波片 减小 转动 激光 本实用新型 固定波片 角度可调 异物污染 支架卡 元器件 挥发 架设 | ||
【主权项】:
1.一种调节装置,其特征在于,包括:/n基座;/n支架,用于固定波片,所述支架设于所述基座内,且所述支架能够在所述基座内转动,以使所述波片相对所述基座的偏转角度可调;及/n润滑组件,所述润滑组件由非挥发性材质制成,设于所述支架和所述基座之间,所述润滑组件用于减小所述支架和所述基座之间的摩擦力。/n
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