[实用新型]磁控溅射圆柱靶的两级密封装置有效
| 申请号： | 201920911660.3 | 申请日： | 2019-06-17 |
| 公开（公告）号： | CN210261966U | 公开（公告）日： | 2020-04-07 |
| 发明（设计）人： | 梁伟;陈培专;李仁龙;魏昌华;高翔 | 申请（专利权）人： | 绵阳金能移动能源有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;H01L31/18 |
| 代理公司： | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 | 代理人： | 贾晓燕 |
| 地址： | 621000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种磁控溅射圆柱靶的两级密封装置，包括：中空圆柱状的靶材；用于对靶材端部进行封装的密封端头，其一侧设置有盲堵，另一侧设置有可伸入靶材内部的连接柱；用于将靶材与密封端头连接成一体的卡扣组件；其中，所述连接柱在与靶材配合的一侧边缘处，以及靠近盲堵的一侧边缘处，分别设置有环形结构的第一沉槽、第二沉槽；所述第一沉槽、第二沉槽上分别设置有实现两级密封的第一密封机构、第二密封机构。本实用新型提供一种磁控溅射圆柱靶的两级密封装置，在密封端头上采用双密封机构的设计，增强密封性能，降低靶材因漏水造成的产品不良。 | ||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 圆柱 两级 密封 装置 | ||
【主权项】：
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