[实用新型]一种基于掺杂硅的光调制太赫兹宽带吸波器有效

专利信息
申请号: 201920837489.6 申请日: 2019-06-05
公开(公告)号: CN209626432U 公开(公告)日: 2019-11-12
发明(设计)人: 沈婷婷;郎婷婷;胡杰 申请(专利权)人: 中国计量大学
主分类号: H01Q17/00 分类号: H01Q17/00;H01Q15/00;G02B5/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 310018 浙江省杭州市江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 实用新型公开了一种基于掺杂硅的光调制太赫兹宽带吸波器,包括三层结构,由下至上依次为:硅衬底层、超材料层和光泵浦源,所述硅衬底层和超材料层均为掺硼的p型硅材料,所述超材料层由单元结构阵列组成,单元结构阵列在xoy平面内周期性的排列在所述硅衬底层,太赫兹波入射到所述吸波器上,被耦合进吸波器并激发电磁共振,实现对太赫兹波的宽带吸收,所述光泵浦源产生泵浦光束,正入射到所述硅衬底层和超材料层上,改变掺杂硅的载流子浓度,实现吸波器对太赫兹波的吸收频带、吸收率的调制功能;本实用新型结构简单,易于加工,对太赫兹波吸收率较高,吸收带宽较宽,具有光调制功能,可广泛应用于成像、隐身、通信、太赫兹检测等多个领域。
搜索关键词: 吸波 超材料层 硅衬底层 太赫兹波 掺杂硅 吸收率 单元结构阵列 本实用新型 光泵浦源 光调制 宽带 载流子 光调制功能 泵浦光束 电磁共振 宽带吸收 三层结构 耦合 正入射 掺硼 入射 吸收 隐身 成像 调制 带宽 激发 检测 通信 加工 应用
【主权项】:
1.一种基于掺杂硅的光调制太赫兹宽带吸波器,其特征在于:包括三层结构,由下至上依次为硅衬底层(1)、超材料层(2)和光泵浦源(3);所述超材料层(2)由单元结构阵列组成,在xoy平面内周期性的排列在所述硅衬底层(1)上;当太赫兹波入射到吸波器时,被耦合进吸波器中并激发电磁共振,实现对太赫兹波的宽带吸收,光泵浦源(3)产生泵浦光束,正入射到硅衬底层(1)和超材料层(2)上,改变掺杂硅的载流子浓度,实现吸波器吸收频带、吸收率的光调制功能。
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