[实用新型]一种用于原子层沉积和等离子体修饰粉体表面的装置有效
| 申请号： | 201920547234.6 | 申请日： | 2019-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN209848857U | 公开（公告）日： | 2019-12-27 |
| 发明（设计）人： | 郭大营;朱梦琦;马圣铭 | 申请（专利权）人： | 中山大学 |
| 主分类号： | B01J8/10 | 分类号： | B01J8/10 |
| 代理公司： | 44245 广州市华学知识产权代理有限公司 | 代理人： | 官国鹏 |
| 地址： | 510275 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种用于原子层沉积和等离子体修饰粉体表面的装置，包括进气斗、底盖和多孔板，所述进气斗的两端分别设有进气口和出气口，进气口和出气口之间形成进气通道，进气通道呈两端大中间小的形状，底盖与进气斗靠近出气口的一端连接，多孔板位于底盖内，多孔板与底盖和出气口之间形成搅拌腔，多孔板具有多个通孔，多个通孔分别与搅拌腔和外界连通，多孔板上设有粉体材料，粉体材料的粒径大于通孔的孔径。本实用新型用于原子层沉积和等离子体修饰粉体表面的装置，通过进气管道宽度的设置，控制气体的流速，不仅可以在真空体系下修饰粉体材料，而且可以实现气体对粉体材料的搅拌，提高气体的利用率，同时达到对粉体材料均匀处理的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 粉体材料 多孔板 出气口 底盖 进气斗 通孔 进气口 等离子体修饰 本实用新型 原子层沉积 进气通道 搅拌腔 进气管道 均匀处理 外界连通 一端连接 真空体系 粒径 修饰 | ||
【主权项】：
1.一种用于原子层沉积和等离子体修饰粉体表面的装置，其特征在于，包括进气斗、底盖和多孔板，所述进气斗的两端分别设有进气口和出气口，进气口和出气口之间形成进气通道，进气通道呈两端大中间小的形状，底盖与进气斗靠近出气口的一端连接，多孔板位于底盖内，多孔板与底盖和出气口之间形成搅拌腔，多孔板具有多个通孔，多个通孔分别与搅拌腔和外界连通，多孔板上设有粉体材料，粉体材料的粒径大于通孔的孔径。/n
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