[实用新型]一种传热均匀的真空烤箱有效
| 申请号： | 201920488881.4 | 申请日： | 2019-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN209783132U | 公开（公告）日： | 2019-12-13 |
| 发明（设计）人： | 林明芳;陈俊宇;郭信良 | 申请（专利权）人： | 江苏鼎茂半导体有限公司 |
| 主分类号： | F26B5/04 | 分类号： | F26B5/04;F26B9/06;F26B23/04;F26B25/00;F26B25/06;F26B25/12;F26B25/18 |
| 代理公司： | 11212 北京轻创知识产权代理有限公司 | 代理人： | 谈杰 |
| 地址： | 215000 江苏省苏州市工*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种传热均匀的真空烤箱，包括与真空机组相配合的开口加热腔和安装在所述开口加热腔的开口处以对其进行封闭的气密门，所述开口加热腔内安装有若干导热隔板，所述导热隔板与所述开口加热腔的连接处和/或所述导热隔板底面安装有加热源，所述开口加热腔底部安装有与所述加热源相连的控制柜；与现有技术相比，本实用新型的优点是：有效改善真空烤箱温度均匀性差的问题，提高了真空烤箱内受热器件的受热均匀度,让器件能在要求的温度范围内做有效的烘烤，从而提高红外热成像器件除气效果,延长红外探测器使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 加热腔 开口 导热隔板 本实用新型 真空烤箱 红外热成像 红外探测器 受热均匀度 温度均匀性 传热均匀 使用寿命 真空机组 受热 加热源 控制柜 气密门 烘烤 热源 除气 底面 封闭 配合 | ||
【主权项】：
1.一种传热均匀的真空烤箱，其特征在于：包括与真空机组相配合的开口加热腔和安装在所述开口加热腔的开口处以对其进行封闭的气密门，所述开口加热腔内安装有若干导热隔板，所述导热隔板与所述开口加热腔的连接处和/或所述导热隔板底面安装有加热源，所述开口加热腔底部安装有与所述加热源相连的控制柜。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏鼎茂半导体有限公司，未经江苏鼎茂半导体有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201920488881.4/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种锂离子电池电芯干燥装置
- 下一篇：一种真空干燥箱
