[实用新型]真空闸室和真空处理设备有效
| 申请号： | 201920323159.5 | 申请日： | 2019-03-14 |
| 公开（公告）号： | CN210458359U | 公开（公告）日： | 2020-05-05 |
| 发明（设计）人： | 约翰·克劳斯 | 申请（专利权）人： | 冯·阿登纳资产股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C16/54 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 王瑞朋;胡彬 |
| 地址： | 德国德*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 根据不同的实施方式提供一种真空闸室(100)，其具有第一腔室壁段(116a)和第二腔室壁段(116b)，其中，第一腔室壁段(116a)具有第一封盖开口(122a)而第二腔室壁段(116b)具有第二封盖开口(122b)。第一封盖开口(122a)可以利用第一腔室封盖(202)遮盖而第二封盖开口(122b)可以利用第二腔室封盖(302)遮盖。两个腔室壁段和两个与其配合的腔室封盖设置为使得真空闸室(100)的需抽空的内部体积尽可能小。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 处理 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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