[发明专利]高精度介质体目标散射的仿真方法有效
| 申请号： | 201911388924.2 | 申请日： | 2019-12-30 |
| 公开（公告）号： | CN111144013B | 公开（公告）日： | 2022-09-06 |
| 发明（设计）人： | 杜家豪;安翔;吕志清;刘义乐 | 申请（专利权）人： | 西安电子科技大学 |
| 主分类号： | G06F30/20 | 分类号： | G06F30/20;G06F17/13 |
| 代理公司： | 陕西电子工业专利中心 61205 | 代理人： | 王品华 |
| 地址： | 710071*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提出了高精度介质体目标散射的仿真方法，主要解决现有CSIE方程无法使用在介质体散射当中的问题。其方案是：使用half‑SWG基函数对网格划分后的目标模型建模；通过保留组合源积分方程中磁流源散射部分，建立体积分组合源积分方程，并将其使用由导体拓展到介质体；将只在良导体目标的散射场计算用的阻抗边界条件用到介质体当中，使同一小四面体中存在的电流源与磁流源进行关联；使用不连续伽辽金法生成矩阵向量表达式，将矩阵向量表达式中的阻抗矩阵转换为占用内存小，且易于求解的形式；使用广义最小残差法对矩阵向量表达式进行求解，得出双站雷达散射截面RCS。本发明精度高、占用计算机内存小，可用于飞行器械及天线设计。 | ||
| 搜索关键词： | 高精度 介质 目标 散射 仿真 方法 | ||
【主权项】：
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