[发明专利]光刻设备中运动台水平向位置的校准方法有效
| 申请号： | 201911382726.5 | 申请日： | 2019-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN113050393B | 公开（公告）日： | 2021-12-10 |
| 发明（设计）人： | 王中飞;丁功明;孙朋 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思捷知识产权代理有限公司 31295 | 代理人： | 王宏婧 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光刻设备中运动台水平向位置的校准方法，包括：通过调整可调元件的参数引入不同物镜倍率，并确定出不同物镜倍率下对准标记在工件台所在平面的理论成像位置作为第一成像位置信息、以及利用掩模对准传感器获取对准标记在工件台所在平面的实际成像位置作为第二成像位置信息；基于不同物镜倍率的第一成像位置信息和第二成像位置信息确定像质参数偏差值，进而确定出掩模台中心与物镜光轴之间的第一相对位移，并基于第一相对位移和物镜的名义倍率确定出工件台中心与物镜光轴之间的第二相对位移；基于第一相对位移和第二相对位移补偿光刻设备。本发明提供的校准方法不仅能够提高测量精度，而且可以优化整机集成步骤，节约整机集成时间。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 运动 水平 位置 校准 方法 | ||
【主权项】：
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