[发明专利]一种二维直线度和直线位移同时测量干涉装置及测量方法在审

专利信息
申请号: 201911343035.4 申请日: 2019-12-24
公开(公告)号: CN111174735A 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 句爱松 申请(专利权)人: 常州工学院
主分类号: G01B11/27 分类号: G01B11/27;G01B11/02
代理公司: 常州佰业腾飞专利代理事务所(普通合伙) 32231 代理人: 杨静文
地址: 213032 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明涉及光学技术领域,具体为一种二维直线度和直线位移同时测量干涉装置及测量方法,应用于精密定位平台的直线度误差检测和直线位移测量,激光器射出准直光束经过扩束系统后,中心光束由挡板接收,不被挡板遮挡的空心光束经分光平板分为两部分,一部分为参考光,参考光经过四分之一波片后入射至反光镜后原路返回,再经过四分之一波片后经过分光平板后发生透射,后经偏振片,偏振片的透振方向与水平方向成45°;另一部分为测量光,测量光经分光平板后透射部分经过四分之一波片后再经圆锥透镜后发生转角,转角后入射至圆锥面反射镜后原路返回,再次经过圆锥透镜和四分之一波片发生反射,后经偏振片,与参考光发生干涉。
搜索关键词: 一种 二维 直线 位移 同时 测量 干涉 装置 测量方法
【主权项】:
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