[发明专利]一种等离子体束流密度分布的测量方法有效
| 申请号： | 201911329025.5 | 申请日： | 2019-12-20 |
| 公开（公告）号： | CN111031651B | 公开（公告）日： | 2022-02-08 |
| 发明（设计）人： | 王波;杨志浩;祁超;吕广宏 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | H05H1/00 | 分类号： | H05H1/00 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 张立改 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种等离子体束流密度分布的测量方法，属于等离子体诊断技术领域。由偏压极板、若干法拉第筒和底板组成。所述偏压极板在每个法拉第筒的轴线位置开设有采集孔，所述偏压极板在边缘端部位置开设有导线连接孔，所述偏压极板经偏压电路接地，使偏压极板带负电，所述偏压极板与法拉第筒的接触面有绝缘涂层；所述法拉第筒内壁有导电薄膜，但不与偏压极板接触，与偏压极板之间留有缝隙，所述法拉第筒下端面有导电薄膜，与下层底板凹槽的导电材料接触引出电路，所述上层底板有固定孔。通过偏压电路10中电流表测得的电流信号I，由电子束通量计算公式Flux计算可得电子束通量，即束流密度。即可测密度分布也可测形状。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 密度 分布 测量方法 | ||
【主权项】：
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