[发明专利]紫外处理装置有效

专利信息
申请号: 201911314813.7 申请日: 2015-10-28
公开(公告)号: CN111035859B 公开(公告)日: 2022-06-07
发明(设计)人: A·杜博尔因斯基;M·舒尔;R·格斯卡 申请(专利权)人: 首尔伟傲世有限公司;传感器电子技术股份有限公司
主分类号: A61L2/10 分类号: A61L2/10;A61N5/06
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 刘美华;韩芳
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 公开了一种紫外处理装置,所述紫外处理装置包括:柔性基底,包括位于第一侧上的紫外吸收层和与第一侧相对定位的第二侧;以及紫外辐射系统,结合到柔性基底,其中,紫外辐射系统包括:被构造为穿过第二侧发射紫外辐射的至少一个紫外辐射源、被配置为控制所述至少一个紫外辐射源的操作的控制系统、以及被配置为检测与第二侧邻近定位的表面上的病原体活性的至少一个感测单元,其中,控制系统基于病原体活性控制所述至少一个紫外辐射源的操作。
搜索关键词: 紫外 处理 装置
【主权项】:
暂无信息
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