[发明专利]通过连续波激光辐照制备纳米多孔二氧化硅薄膜的方法及其设备有效
| 申请号： | 201911307643.X | 申请日： | 2019-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN111057999B | 公开（公告）日： | 2021-12-10 |
| 发明（设计）人： | 王楠;钟奇;谢雨江 | 申请（专利权）人： | 上海米蜂激光科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/10 | 分类号： | C23C14/10;C23C14/34;C23C14/58 |
| 代理公司： | 上海三方专利事务所(普通合伙) 31127 | 代理人： | 吴玮 |
| 地址： | 201306 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及多孔二氧化硅薄膜的制备技术领域，具体来说是一种通过连续波激光辐照制备纳米多孔二氧化硅薄膜的方法及其设备，将富硅氧化硅薄膜固定于一设置在密闭的金属腔体内的移动平台上，所述的金属腔体在垂直于移动平台的运动方向的一侧设有石英窗口，使用聚焦透镜将连续波激光的激光光斑通过石英窗口聚焦至富硅氧化硅薄膜表面，并同时持续向金属腔体内通入氮气气流，通过控制移动平台的移动速度以获得不同密度的纳米孔洞，通过控制激光功率以获得不同孔隙的纳米孔洞。本发明同现有技术相比，其优点在于：能够尽可能避免使用造成环境污染的化学试剂，又能保证薄膜的洁净度；能够对纳米多孔二氧化硅薄膜的孔隙大小的均匀性进行精确控制。 | ||
| 搜索关键词： | 通过 连续 激光 辐照 制备 纳米 多孔 二氧化硅 薄膜 方法 及其 设备 | ||
【主权项】：
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