[发明专利]一种双元级等离子基团修饰氧化钨光催化剂的制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201911275257.7 申请日: 2019-12-12
公开(公告)号: CN111068719B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 陈志鸿;林碧云;王新 申请(专利权)人: 肇庆市华师大光电产业研究院
主分类号: B01J27/047 分类号: B01J27/047;C02F1/30;C02F101/38
代理公司: 广州正明知识产权代理事务所(普通合伙) 44572 代理人: 张丽
地址: 526000 广东省肇庆市*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明属于光催化降解技术领域,公开了一种双元级等离子基团修饰氧化钨光催化剂的制备方法,通过调节氧化钨和硫化物的比例,以及氧化钨和Cu2+的比例,得到硫化铜修饰氧化钨纳米线,硫化铜在900nm处产生等离子效应,有效的增强了材料的光吸收能力和光响应范围;通过光沉积引入单质银颗粒,能在550nm处产生等离子效应,也增强了材料的光响应范围。研究表明上述复合材料在较广的太阳光光谱范围具有良好的光催化性能。
搜索关键词: 一种 双元级 等离子 基团 修饰 氧化钨 光催化剂 制备 方法 应用
【主权项】:
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