[发明专利]蒙脱土在磁控溅射靶材中的应用、得到的蒙脱土薄膜及应用有效
| 申请号： | 201911258911.3 | 申请日： | 2019-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN111020503B | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 吴倩;沈谅平;董明;王浩 | 申请（专利权）人： | 湖北大学;西安交通大学 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京细软智谷知识产权代理有限责任公司 11471 | 代理人： | 宋艳艳 |
| 地址： | 430000 湖北*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 蒙脱土在磁控溅射靶材中的应用、得到的蒙脱土薄膜及应用。本发明将蒙脱土以特定的形式作为靶材应用于磁控溅射技术中。本发明首先通过将蒙脱土与无水酒精混合制备悬浮液，将悬浮液涂覆在模具的各个表面的方式，防止热压时产生粘模的现象，保证得到的靶材具有良好的表面平整度；然后在进行烧结的过程中，本发明采用在特定的真空度和压力下，逐步升温，阶段性保温的方法，一方面，保证蒙脱土中组织结构的均匀性，提高蒙脱土的密度和纯度，降低蒙脱土内部的孔隙率，另一方面，能够获得具有一定取向的蒙脱土结晶体。本发明提供的蒙脱土薄膜的制备方法，以上述高密度蒙脱土为靶材，通过磁控溅射技术成膜，然后进行退火处理得到蒙脱土薄膜，得到的蒙脱土薄膜结构均匀、机械性能良好、介电性能优良。 | ||
| 搜索关键词： | 蒙脱土 磁控溅射 中的 应用 得到 薄膜 | ||
【主权项】：
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