[发明专利]真空绝缘结构在审

专利信息
申请号: 201911252431.6 申请日: 2019-12-09
公开(公告)号: CN111609637A 公开(公告)日: 2020-09-01
发明(设计)人: 苏尼尔·S·艾克辛格;阿伦库马尔·哈里克里希纳萨米;赛·B·克里什纳;阿比安·奈克;桑杰什·库马尔·帕塔克;卡伦·J·凯弗思 申请(专利权)人: 惠而浦公司
主分类号: F25D11/02 分类号: F25D11/02;F25D17/04;F25D23/02;F25D25/02
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 张敬强;杜嘉璐
地址: 美国密*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供了一种真空绝缘结构,包括第一面板和第二面板,其中所述第二面板可操作地耦接到所述第一面板,以在其间限定绝缘空间。气道系统设置在所述绝缘空间内,并且包括多孔管的部分,其配置成在抽空过程中沿着所述多孔管的长度从所述绝缘空间抽取空气。多个连接器将所述气道系统的所述多孔管部分互连到所述绝缘空间的内壁。所述连接器可以包括在所述绝缘空间内的所述面板之间延伸的支撑构件,以在真空压力下支撑所述真空绝缘结构。此外,第一面板和第二面板可以包括刚性结构配置,以在所述抽空过程中对抗真空弯曲。
搜索关键词: 真空 绝缘 结构
【主权项】:
暂无信息
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