[发明专利]滤波自聚焦透镜及光通信无源光器件在审
| 申请号： | 201911141896.4 | 申请日： | 2019-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN110794500A | 公开（公告）日： | 2020-02-14 |
| 发明（设计）人： | 张于帅 | 申请（专利权）人： | 苏州浩联光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/28 | 分类号： | G02B5/28;G02B3/00;G02B1/11;G02B1/10;G02B6/32;G02B6/293 |
| 代理公司： | 11463 北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人： | 赖俊科 |
| 地址： | 215000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种滤波自聚焦透镜及光通信无源光器件，涉及光学元件领域。滤波自聚焦透镜包括自聚焦透镜本体及滤光膜，自聚焦透镜本体具有用于输出平行光的第一出光面，滤光膜镀制于第一出光面，滤光膜由高折射率膜层和低折射率膜层自靠近第一出光面至远离第一出光面的方向交替堆叠所得，高折射率膜层由氢化硅制得。滤波自聚焦透镜及光通信无源光器件均通过在第一出光面镀制有滤光膜以替代滤光片，有效节省制备成本，同时由于高折射率膜层由氢化硅制得，其在波长域内具有高达3.6的折射率，有效减薄滤光膜的厚度，极大的降低了工艺难度，提高产品的良率，同时达到了自聚焦透镜与滤光片组合的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 自聚焦透镜 滤光膜 出光面 高折射率膜层 滤波 无源光器件 氢化硅 光通信 镀制 低折射率膜层 滤光片组合 工艺难度 光学元件 交替堆叠 有效减薄 波长域 滤光片 平行光 折射率 良率 制备 输出 替代 | ||
【主权项】：
1.一种滤波自聚焦透镜，其特征在于，其包括自聚焦透镜本体及滤光膜，所述自聚焦透镜本体具有用于输出平行光的第一出光面，所述滤光膜镀制于所述第一出光面，所述滤光膜由高折射率膜层和低折射率膜层自靠近第一出光面至远离第一出光面的方向交替堆叠所得，所述高折射率膜层由氢化硅制得。/n
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