[发明专利]一种纳米级薄膜图案电化学刻蚀加工系统及其加工方法在审
| 申请号： | 201911125106.3 | 申请日： | 2019-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN110980632A | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 贺晶莹 | 申请（专利权）人： | 贺晶莹 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京劲创知识产权代理事务所(普通合伙) 11589 | 代理人： | 徐家升 |
| 地址： | 410000 湖南省*** | 国省代码： | 湖南;43 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明专利公开了一种纳米级薄膜图案电化学刻蚀加工系统及其加工方法，系统包括具有纳米级孔径的毛细管、电解液暂存容器、电解系统、电解液流出控制系统、湿度控制系统、支撑密闭箱、运动定位平台、显微视觉摄像机、减震平台、加工件放置基座和控制计算机；该方法利用纳米级孔径毛细管与被加工薄膜件之间形成的电解液桥将电化学刻蚀反应限制在纳米级范围，通过纳米级平台驱动液桥与被加工薄膜件的相对运动，从而实现纳米级薄膜图案的加工。相比于传统的激光光刻刻蚀加工方法，本发明可以单步完薄膜的加工，具有运行成本低，过程简便和加工灵活的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 纳米 薄膜 图案 电化学 刻蚀 加工 系统 及其 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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