[发明专利]EUV聚光设备和包括EUV聚光设备的光刻设备在审
申请号: | 201911076914.5 | 申请日: | 2019-11-06 |
公开(公告)号: | CN111142339A | 公开(公告)日: | 2020-05-12 |
发明(设计)人: | 刘灏;林彩默;张圣虎;崔珉硕 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 赵南;张青 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 可提供一种极紫外(EUV)聚光设备,所述设备包括:主体,其具有凹陷内部并且被构造为旋转;锡产生器,其被构造为产生锡滴并喷射锡滴;锡捕获器,其被构造为处理喷射的锡滴;保护盖,其被构造为阻止锡滴落入主体中;以及旋转导向件,其被构造为使主体旋转。 | ||
搜索关键词: | euv 聚光 设备 包括 光刻 | ||
【主权项】:
暂无信息
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