[发明专利]扫描干涉光刻系统有效
| 申请号： | 201911050366.9 | 申请日： | 2019-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN110837214B | 公开（公告）日： | 2020-12-08 |
| 发明（设计）人： | 王磊杰;朱煜;张鸣;徐继涛;成荣;郝建坤;杨开明;李鑫;高思齐;范玉娇 | 申请（专利权）人： | 清华大学;北京华卓精科科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人： | 吴金水;张超艳 |
| 地址： | 100084 北京市海淀区北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明属于光学仪器仪表设备技术领域，提供了一种扫描干涉光刻系统，包括外差光路、第一干涉光路、第二干涉光路、运动台和控制子系统；运动台，所述运动台上承载基底，以位移测量干涉仪测量运动台的位移，第一束光和第二束光在基底上聚焦干涉曝光；控制子系统根据各种测量信息生成指令，对相应器件的角度或者光束的相位进行调节，完成对第一束光和第二束光干涉曝光条纹相位漂移的锁定。本发明的扫描干涉光刻系统具有条纹图形锁定精度高、激光利用率高等优点，利用外差相位计测量曝光光束的相位，位移测量干涉仪测量运动台的运动误差，通过控制子系统进行补偿控制曝光干涉条纹，可用于制造大面积高精度密栅线渐变周期光栅。 | ||
| 搜索关键词： | 扫描 干涉 光刻 系统 | ||
【主权项】：
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