[发明专利]一种高精度反射镜面型的加工方法在审

专利信息
申请号: 201911041512.1 申请日: 2019-10-30
公开(公告)号: CN110716253A 公开(公告)日: 2020-01-21
发明(设计)人: 朱一村;廖洪平;吴先云;张星;陈秋华;陈言灯;陈伟 申请(专利权)人: 福建福晶科技股份有限公司
主分类号: G02B5/08 分类号: G02B5/08;G02B1/10
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 350003 福建*** 国省代码: 福建;35
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摘要: 本发明专利涉及一种高精度反射镜面型的加工方法,包括一个抛光的基底,表面镀制高反膜,其特征在于所述的一种高精度反射镜面型的加工方法,高反膜系设计时,优化膜系结构及最外层的SiO
搜索关键词: 面型 反射镜 最外层 高反膜 反射率 镀制 干涉仪测试 离子束加工 镀膜工艺 厚度变化 加工方便 面型数据 膜系结构 表面镀 离子束 抛光 基底 膜层 去除 加工 测试 优化
【主权项】:
1.本发明专利涉及一种高精度反射镜面型的加工方法,包括一个抛光的基底,表面镀制高反膜,其特征在于所述的一种高精度反射镜面型的加工方法,高反膜系设计时,优化膜系结构及最外层的SiO
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